作者:关赫
页数:214
出版社:西北工业大学出版社
ISBN:9787561292181
电子书格式:pdf/epub/txt
内容简介
本书以行业内高阻硅(HRSi)基氮化镓外延和材料的研究成果为基础,以仿真设计为切入点,结合制备工艺,开展了基于高阻Si(lll)衬底的氮化镓(GaN)异质结外延器件的技术研究。
作者:关赫
页数:214
出版社:西北工业大学出版社
ISBN:9787561292181
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本书以行业内高阻硅(HRSi)基氮化镓外延和材料的研究成果为基础,以仿真设计为切入点,结合制备工艺,开展了基于高阻Si(lll)衬底的氮化镓(GaN)异质结外延器件的技术研究。