
作者:郑伟涛
页数:249 页
出版社:化学工业出版社
出版日期:2008
ISBN:9787122013149
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内容简介
本书介绍了薄膜材料与薄膜技术的基本理论与知识,重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理,对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。
目录
第一章 真空技术基础第一节 真空的基本知识一、真空度的单位二、真空区域的划分三、固体对气体的吸附及气体的脱附第二节 真空的获得
节选
本书系统阐述了薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识,重点介绍了薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征,对目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料进行了介绍、评述和展望。本书技术先进,内容实用,适合于从事材料研究的科研、技术人员阅读参考,同时也可作为高校材料专业教材使用。














