作者：[美]BanP.Wong[等]著
页数：345
出版社：机械工业出版社
出版日期：2011
ISBN：9787111330837
电子书格式：pdf/epub/txt
内容简介
本书将纳米工艺、器件可制造性、先进电路设计和相关物理实现等内容整合到一起，形成了一套先进的半导体技术，探讨了器件和工艺的新发展，提供了设计考虑，重点关注了技术与设计的相互影响，并且描述了可制造性设计和波动性的影响。重要的主题包括纳米cmos工艺缩小问题及其对设计的影响；亚波长光刻；运行问题的物理与理论以及解决方案；可制造性设计和波动性。
目录
译者的话
原书序
原书前言
第1章 纳米cmos?缩小问题及内涵
1.1 纳米cmos时代的设计方法
1.2使得性能改善得到延续所必需的创新
1.3 sub.100nm缩小的挑战和亚波长光刻综述
1.3.1后道工艺的挑战(金属化)
1.3.2前道工艺的挑战(晶体管)
1.4工艺控制和可靠性
1.5 光刻问题和掩膜数据爆炸
1.6 新型的电路和物理设计工程师
1.7建模的挑战
1.8 变革设计方法的需要
1.9 总结
原书序
原书前言
第1章 纳米cmos?缩小问题及内涵
1.1 纳米cmos时代的设计方法
1.2使得性能改善得到延续所必需的创新
1.3 sub.100nm缩小的挑战和亚波长光刻综述
1.3.1后道工艺的挑战(金属化)
1.3.2前道工艺的挑战(晶体管)
1.4工艺控制和可靠性
1.5 光刻问题和掩膜数据爆炸
1.6 新型的电路和物理设计工程师
1.7建模的挑战
1.8 变革设计方法的需要
1.9 总结
