[夸克网盘]射频高阻硅基氮化镓异质结外延器件仿真设计及制备技术 PDF

作者：关赫

页数：214

出版社：西北工业大学出版社

ISBN：9787561292181

电子书格式：PDF

PDF下载地址

资源编号：391750284.pdf

解压密码：www.teccses.org

1：夸克网盘下载地址（推荐）

2：百度网盘备用地址（推荐）

3：如果以上网盘链接被和谐，打开此链接，看是否有类似以下用红圈圈出来的，也能下载。

内容简介

本书以行业内高阻硅(HRSi)基氮化镓外延和材料的研究成果为基础，以仿真设计为切入点，结合制备工艺，开展了基于高阻Si(lll)衬底的氮化镓(GaN)异质结外延器件的技术研究。