作者：刘忠立,高见头
页数：383
出版社：国防工业出版社
出版日期：2020
ISBN：9787118119299
电子书格式：pdf/epub/txt
内容简介
本书共11章，主要内容包括辐射环境、辐射效应相关的半导体基础知识、辐射效应的一般概念、半导体材料的辐射效应、Si器件的辐射效应、GaAs半导体器件的辐射效应、光电子器件的辐射效应、Si集成电路的辐射效应及加固技术、纳米级CMOS集成电路的辐射效应及加固技术、半导器件辐射效应的一些新研究动向、辐射效应模拟试验及测试技术。
作者简介
刘忠立，长期从事辐射加固集成电路、微传感器及半导体功率器件研究。现任中国科学院微电子研究所特聘研究员，传感技术国家重点实验室学术委员会委员、北京市传感技术实验室学术委员会委员、中国电子学会核辐射电磁脉冲专委会委员。 高见头，男，硕士，中国科学院微电子研究所高级工程师,长期从事半导体集成电路与功率器件辐照能力评估与抗辐照加固工作,在NSREC、TNS等国内外会议、期刊发表论文数十篇。
目录
1．1 引言
1．2 辐射环境的种类
1．2．1 空间环境
1．2．2 核环境
1．2．3 高能物理实验环境
1．2．4 器件制造引入的辐射环境
1．3 小结
第2章 辐射效应相关的半导体基础知识
2．1 引言
2．2 本征半导体及非本征半导体
2．2．1 半导体能带结构
2．2．2 本征半导体
2．2．3 非本征半导体
2．2．4 浅能级、深能级、杂质的补偿作用
2．3 半导体中载流子的产生及复合
2．3．1 载流子的产生
2．3．2 载流子的复合
2．4 载流子的迁移率
2．4．1 迁移率的特性
2．4．2 载流子的扩散系数
2．5 PN结二级管
2．6 肖特基结二极管
2．7 MOS电容及MOSFET
2．7．1 表面势
2．7．2 耗尽层
2．7．3 表面反型层
2．7．4 MOS电容
2．7．5 MOSFET
2．8 直接有辐射环境的半导体工艺
2．8．1 NMOSFET工艺流程
2．8．2 离子注入掺杂
2．8．3 干法刻蚀
2．9 小结
……
第3章 辐射效应的一般概念
第4章 半导体材料的辐射效应
第5章 Si半导体器件的辐射效应
第6章 GaAs半导体器件的辐射效应
第7章 光电子器件的辐射效应
第8章 Si集成电路的辐射效应及加固技术
第9章 纳米级CMOS集成电路的辐射效应及加固技术
第10章 半导体器件辐射效应的一些新研究动向
第11章 辐射效应模拟试验及测试技术
参考文献
